西電韓根全教授團(tuán)隊(duì)---通過NH?等離子體預(yù)處理提升β-Ga?O?光電晶體管的光電性能,實(shí)現(xiàn)超靈敏日盲紫外線檢測
由西安電子科技大學(xué)韓根全教授研究團(tuán)隊(duì)在學(xué)術(shù)期刊 IEEE Electron Device Letters 發(fā)布了一篇名為 Enhanced Photoelectric Performance of β-Ga2O3 Phototransistors via NH3 Plasma Pretreatment for Ultra-Sensitive Solar-Blind UV Detection(通過NH3等離子體預(yù)處理提升 β-Ga2O3 光電晶體管的光電性能,實(shí)現(xiàn)超靈敏日盲紫外線檢測)的文章。
1. 背景
日盲紫外(UV)探測器在火焰探測、空間通信、導(dǎo)彈預(yù)警等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。β−Ga2O3 因其 4.6-4.9 eV 的超寬禁帶和本征日盲特性,成為制備高性能光電探測器的理想材料。傳統(tǒng)的 β−Ga2O3 肖特基或金屬-半導(dǎo)體-金屬(MSM)光電探測器通常由于低光增益而存在響應(yīng)度低的問題。光電晶體管通過柵極調(diào)控提供更高光增益,是實(shí)現(xiàn)超高靈敏度日盲UV探測的有效途徑。然而,β−Ga2O3 基光電晶體管的性能常受限于介電層/半導(dǎo)體界面的缺陷態(tài),這些缺陷態(tài)會(huì)捕獲光生載流子,導(dǎo)致光響應(yīng)速度慢、暗電流高和光電流不穩(wěn)定。降低界面缺陷態(tài)密度是提高 β−Ga2O3 光電晶體管性能的關(guān)鍵。
2. 主要內(nèi)容
本研究提出了一種具有卓越光電性能的 β-Ga2O3 光電晶體管,其性能通過在 Al2O3 絕緣層沉積前進(jìn)行 NH3 等離子體預(yù)處理得到提升。該器件在254 nm紫外光(UV)照射下,實(shí)現(xiàn)了驚人的響應(yīng)度(R)為 1.3×106 A/W,以及創(chuàng)紀(jì)錄的高探測率(D*)為 2.8×1019 Jones。在 1 Hz 脈沖紫外光源下,該器件展現(xiàn)出快速光響應(yīng)特性,上升時(shí)間(τr)為 90 ms,衰減時(shí)間(τd)為1 ms。這些優(yōu)異特性歸因于 NH3 等離子體在 Al2O3/β-Ga2O3 界面引發(fā)的改進(jìn),包括捕獲密度降低和介電層粘附性增強(qiáng)。研究成果為開發(fā)具有超靈敏、日盲紫外線檢測能力和快速響應(yīng)性能的 β-Ga2O3 光晶體管提供了有前景的途徑。
3. 創(chuàng)新點(diǎn)
● 系統(tǒng)的將 NH3 等離子體預(yù)處理引入到 β−Ga2O3 光電晶體管的制備中,以優(yōu)化介電層/半導(dǎo)體界面。
● 通過 NH3 等離子體預(yù)處理,有效地降低了 Al2O3/β−Ga2O3 界面處的陷阱密度,從而顯著抑制了暗電流。
● 通過XPS、AFM等分析手段,深入探討了 NH3 等離子體預(yù)處理如何通過改善表面形貌、形成 Ga-N 鍵和減少氧空位等方式優(yōu)化界面的具體機(jī)制。
4. 結(jié)論
本研究提出將 NH3 等離子體預(yù)處理作為提升 β-Ga2O3 光電晶體管性能的有效方法,旨在解決Al2O3/β-Ga2O3 界面處界面陷阱這一關(guān)鍵挑戰(zhàn)。通過化學(xué)鈍化表面缺陷,該方法顯著提升了介電層附著力并降低了陷阱密度。因此,光電晶體管實(shí)現(xiàn)了創(chuàng)紀(jì)錄的D∗值為 2.8 × 1019 Jones,高R值為 1.3 × 106 A/W,以及超快光響應(yīng)時(shí)間,其中 τr 為 90 ms,τd 為 1 ms。這些結(jié)果凸顯了該器件在弱光條件下對紫外線(UV)的卓越靈敏度和可靠性。在此基礎(chǔ)上,未來通過引入 HfO2 和 ZrO2 等高介電常數(shù)材料,可進(jìn)一步提升光電晶體管的光電轉(zhuǎn)換效率。
圖1. (a)示意圖和(b)光學(xué)顯微鏡圖像顯示的β-Ga2O3 日盲光電晶體管。 (c) β-Ga2O3 外延薄膜的透射光譜。 (d)Al2O3/β-Ga2O3 樣品的 Ga 3d 核心能級 XPS 光譜,包括有無 NH3 等離子體預(yù)處理的情況。
圖2. 光電晶體管的雙掃移轉(zhuǎn)曲線:(a)未處理和(b)經(jīng) NH3 處理。 (c)光電晶體管在兩個(gè)靜態(tài)偏壓下測得的脈沖輸出曲線比較:(c)未處理和(d)經(jīng) NH3 處理。
圖3. (a) 在254 nm波長下,不同光強(qiáng)照射下光電晶體管的傳輸特性。(b) Iph、(c) PDCR和EQE以及(d) R 和 D* 在光功率密度中的關(guān)系。
圖4. (a) 在不同柵極電壓(VG)下測得的噪聲功率譜。 (b) 1/f 噪聲下 D* 對頻率和柵極電壓(VG)的依賴關(guān)系。 (c) 光電晶體管的歸一化時(shí)間依賴性漏極電流曲線。 (d) 在紫外光照射下 Ni/Al2O3/Ga2O3 層的能帶圖。
圖5. 本研究中 D* 與 τd 的對比結(jié)果與其他已報(bào)道的 PDs 的對比。
DOI:
doi.org/10.1109/LED.2025.3545485
本文轉(zhuǎn)發(fā)自《亞洲氧化鎵聯(lián)盟》訂閱號