西安交通大學(xué)---低溫下超臨界流體處理后改善Al?O?/β-Ga?O?界面機(jī)制
由西安交通大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)在學(xué)術(shù)期刊 IEEE Transactions on Electron Devices 發(fā)布了一篇名為 Mechanism of Improving Al2O3/β-Ga2O3 Interface After Supercritical Fluid Process at a Low Temperature(低溫下超臨界流體處理后改善 Al2O3/β-Ga2O3 界面機(jī)制)的文章。
1. 項(xiàng)目支持
本研究的由國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)(項(xiàng)目編號(hào):62204198)、國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)聯(lián)合基金(項(xiàng)目編號(hào):U23A20367)資助。
2. 背景
β-Ga2O3 作為超寬禁帶半導(dǎo)體,因其高擊穿電壓和快速開(kāi)關(guān)特性,在高功率器件應(yīng)用中受到廣泛關(guān)注。然而,β-Ga2O3 金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)器件的性能和可靠性受到半導(dǎo)體與絕緣層之間界面態(tài)性質(zhì)的顯著影響。因此,高質(zhì)量的介質(zhì)/β-Ga2O3 界面在形成高性能 MOSFET 中起著至關(guān)重要的作用。這些界面缺陷,特別是氧空位,會(huì)捕獲載流子,導(dǎo)致嚴(yán)重的遲滯現(xiàn)象、閾值電壓漂移、載流子遷移率降低和漏電流增加。傳統(tǒng)的界面鈍化方法(如高溫退火)可能會(huì)對(duì)材料造成損傷,并且無(wú)法完全消除所有缺陷。因此,需要一種低溫、高效的方法來(lái)改善 Al2O3/β-Ga2O3 界面質(zhì)量。
3. 主要內(nèi)容
β-Ga2O3 作為超寬禁帶半導(dǎo)體,因其高擊穿電壓和快速開(kāi)關(guān)特性而備受關(guān)注。然而,Al2O3/β-Ga2O3 界面處的高界面密度帶來(lái)了挑戰(zhàn),這會(huì)顯著影響金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)器件的性能和可靠性。作為一種低溫解決方案,超臨界流體工藝(SCFP)被引入 Al2O3/β-Ga2O3 金屬氧化物半導(dǎo)體電容器(MOSCAP)的制備過(guò)程,該工藝有效減少了氧空位和界面缺陷,特別避免了高溫對(duì)材料造成的損傷。界面附近的陷阱減少了兩倍,界面態(tài)減少了五倍。因此,擊穿電場(chǎng)從 6.01 MV cm−1 提高到 8.47 MV cm−1。通過(guò)不同的測(cè)量和分析方法,探索并解釋了 SCFP 的機(jī)制。深能級(jí)瞬態(tài)光譜(DLTS)結(jié)果表明,SCFP 器件的缺陷濃度降低,電子俘獲截面增加。超臨界流體處理通過(guò)減少 Al2O3 中的氧空位來(lái)鈍化陷阱。研究結(jié)論指出,所提出的SCFP 顯著改善了介質(zhì)/半導(dǎo)體界面,這可大幅提升晶體管的性能。
4. 創(chuàng)新點(diǎn)
•將超臨界流體工藝(SCFP)引入到 Al2O3/β−Ga2O3 界面鈍化中,提供了一種低溫且高效的解決方案,避免了傳統(tǒng)高溫退火可能造成的材料損傷。
•實(shí)驗(yàn)證明 SCFP 能顯著減少近界面陷阱約 2 倍,并將界面態(tài)密度降低約 5 倍。這通過(guò)補(bǔ)充氧原子并形成新的 Ga-O 鍵來(lái)有效修復(fù)氧空位。
•通過(guò) SCFP 處理,器件的擊穿電場(chǎng)從 6.01 提高到 8.47 MV/cm−1,遲滯電壓從1.3 V降低到0.3 V,并且漏電流也得到有效抑制。
•通過(guò)結(jié)合 C-V、DLTS 和 XPS 等多種先進(jìn)表征和理論模擬方法,系統(tǒng)地揭示了 SCFP 改善 Al2O3/β−Ga2O3 界面質(zhì)量的具體物理和化學(xué)機(jī)制。
5. 結(jié)論
本次研究成功制備了 Al2O3/β-Ga2O3 MOSCAPs。首先開(kāi)發(fā)了 SCFP 處理方法以提升 Al2O3/β-Ga2O3 界面質(zhì)量。界面附近的陷阱密度 Nbt 從 5.6 × 1011 降至 3.6 × 1011 cm−2,而界面態(tài)密度 Dit 在電子能級(jí)(EC)下方 0.2 eV 處的值從 1.29 × 1012 降至 2.54 × 1011 eV−1 cm−2。DLTS 結(jié)果表明,SCF 器件的陷阱能級(jí)位置更深,缺陷濃度降低,且陷阱發(fā)射能級(jí)更深,這進(jìn)一步支持了器件界面質(zhì)量的提升。此外,經(jīng)過(guò) SCFP 處理后,擊穿電場(chǎng)從 6.01 提升至 8.47 MV cm−1。此外,XPS 分析表明,SCFP 處理可通過(guò)減少 Al2O3 中的氧空位來(lái)鈍化陷阱。本研究首次系統(tǒng)研究了 SCFP 作用及其對(duì) Al2O3/β-Ga2O3 MOS 器件的影響,提供了詳細(xì)的方法描述、測(cè)試表征及機(jī)理分析。β-Ga2O3 中使用的其他氧化物界面也值得深入研究。SCFP 工藝因其高效率、低成本工藝消耗及簡(jiǎn)單工藝流程,在制造工藝中的應(yīng)用前景廣闊。本研究提供了系統(tǒng)性研究方法,為后續(xù)相關(guān)工作奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
圖1. (a) Al2O3/β-Ga2O3 (001) MOSCAP的截面示意圖。 (b) SCFP設(shè)備的示意圖。
圖2. (a) 三個(gè)樣品的 C–V 滯后測(cè)量。 (b)–(d) SPM、PDA 和 SCF 樣品中 Al2O3 的原子力顯微鏡圖像,分別對(duì)應(yīng)于各樣品。
DOI:
doi.org/10.1109/TED.2025.3544174
本文轉(zhuǎn)發(fā)自《亞洲氧化鎵聯(lián)盟》訂閱號(hào)